Cao Tùng
Member
Công ty Taiziwei Semiconductor của Trung Quốc vừa công bố phát triển thành công loại chất cản quang (photoresist) mới, đánh dấu một bước tiến quan trọng trong nỗ lực tự chủ công nghệ bán dẫn của quốc gia này. Chất cản quang là vật liệu nhạy sáng, đóng vai trò then chốt trong quy trình quang khắc (photolithography) - công nghệ dùng để tạo ra các mạch điện tử trên tấm bán dẫn silicon. Loại chất cản quang mới của Taiziwei có tên T150A, đạt độ phân giải ấn tượng 120 nanomet trong quang khắc, vượt trội hơn hẳn các...
Đọc bài gốc tại đây
Đọc bài gốc tại đây