JavaScript is disabled. For a better experience, please enable JavaScript in your browser before proceeding.
You are using an out of date browser. It may not display this or other websites correctly.
You should upgrade or use an
alternative browser .
Nga tham vọng chinh phục công nghệ quang khắc EUV 11.2nm vào năm 2037 - liệu có phải giấc mộng vĩ cuồng?
Trong ngành chip đang bị ASML thống trị, Nga bất ngờ tung ra lộ trình EUV lithography "made in Russia" tại bước sóng 11.2nm – khác hẳn chuẩn 13.5nm của Hà Lan Kế hoạch bắt đầu năm 2026-2028 với máy lithography 40nm, dùng hệ thống quang học hai gương, độ chính xác overlay 10nm, trường tiếp xúc 3x3 mm và năng suất hơn 5 wafer/giờ – một bước "nhập môn" khiêm tốn để thay thế DUV hiện tại. Tiếp theo, giai đoạn 2029-2032 nâng cấp lên scanner 28nm (có thể 14nm) với bốn gương, overlay 5nm, trường 26x0.5 mm và hơn...
Đọc bài gốc tại
đây
Đăng nhập một lần thảo luận tẹt ga
window.googletag = window.googletag || {cmd: []};
googletag.cmd.push(function() {
window.uk_delivery_1753154734465 = googletag.defineSlot('/57976558/Ureka_Supply_home.vn_Outstream_1x1_270225', [1,1], 'div-gpt-ad-1753154734465-0').addService(googletag.pubads());
googletag.pubads().enableSingleRequest();
googletag.enableServices();
googletag.display('div-gpt-ad-1753154734465-0');
});
googletag.cmd.push(function() {
if(googletag.pubads().isInitialLoadDisabled() && !window.uk_delivery_1753154734465.getResponseInformation()){
googletag.pubads().refresh([window.uk_delivery_1753154734465])
}
});
window.googletag = window.googletag || {cmd: []};
googletag.cmd.push(function() {
window.uk_delivery_1753685560510 = googletag.defineSlot('/57976558/Ureka_Supply_home.vn_InpageMB_1x1_110325', [1,1], 'div-gpt-ad-1753685560510-0').addService(googletag.pubads());
googletag.pubads().enableSingleRequest();
googletag.enableServices();
googletag.display('div-gpt-ad-1753685560510-0');
});
googletag.cmd.push(function() {
if(googletag.pubads().isInitialLoadDisabled() && !window.uk_delivery_1753685560510.getResponseInformation()){
googletag.pubads().refresh([window.uk_delivery_1753685560510])
}
});
Đoạn Video
Ảnh
Trong ngành chip đang bị ASML thống trị, Nga bất ngờ tung ra lộ trình EUV lithography "made in Russia" tại bước sóng 11.2nm – khác hẳn chuẩn 13.5nm của Hà Lan Kế hoạch bắt đầu năm 2026-2028 với máy lithography 40nm, dùng hệ thống quang học hai gương, độ chính xác overlay 10nm, trường tiếp xúc 3x3 mm và năng suất hơn 5 wafer/giờ – một bước "nhập môn" khiêm tốn để thay thế DUV hiện tại. Tiếp theo, giai đoạn 2029-2032 nâng cấp lên scanner 28nm (có thể 14nm) với bốn gương, overlay 5nm, trường 26x0.5 mm và hơn...
