Đoạn Video
Ảnh
Cao Tùng
Thành viên nổi tiếng
TSMC đã tái khẳng định chiến lược không sử dụng công cụ quang khắc High-NA EUV cho các công nghệ tiên tiến sắp tới gồm A16 (1.6nm) và A14 (1.4nm). Thay vào đó, TSMC sẽ tiếp tục tối ưu hóa các công cụ Low-NA EUV hiện tại để đạt hiệu quả mong muốn về hiệu suất, công suất và mật độ transistor. Phát biểu của Phó Chủ tịch Điều hành và Phó Tổng Giám đốc Phát triển Kinh doanhKevin Zhang đã làm sáng tỏ cách tiếp cận này, nhấn mạnh sự đổi mới của đội ngũ kỹ thuật TSMC trong...Đọc bài gốc tại đây
